Lamella substrati sapphirini Al2O3 99.999% altae puritatis, 4 pollices, Dia 101.6 × 0.65 mmt, cum longitudine plana primaria.
Descriptio
Specificationes communes lamellarum sapphirinarum quattuor unciarum sic introducuntur:
Crassitudo: Crassitudo laminarum sapphirinarum communium inter 0.2 mm et 2 mm est, et crassitudo specifica secundum desideria emptoris aptari potest.
Margo Collocationis: Solet esse parva sectio in margine crustae, "margo collocationis" appellata, quae superficiem et marginem crustae protegit, et plerumque est amorpha.
Praeparatio superficiei: Lamellae sapphirinae communes mechanice teruntur et chemice mechanice poliuntur ut superficies laeves fiant.
Proprietates superficiei: Superficies laminarum sapphirinarum plerumque proprietates opticas bonas habet, ut reflectivitatem humilem et indicem refractionis humilem, ad efficientiam instrumenti emendandam.
Applicationes
● Substratum crescendi pro compositis III-V et II-VI
● Electronica et optoelectronica
● Applicationes infrarubrae
● Circuitus Integratus Silicii in Sapphiro (SOS)
● Circuitus Integratus Frequentiae Radiophonicae (RFIC)
Specificatio
Res | Lamellae Sapphirinae 650μm, quattuor unciarum, plani C (0001) | |
Materiae Crystallinae | 99,999%, Altae Puritatis, Monocrystallinum Al₂O₃ | |
Gradus | Primus, Epi-Paratus | |
Orientatio Superficiei | Planum C(0001) | |
Planum C aberrans ab axe M 0.2 +/- 0.1° | ||
Diameter | 100.0 mm +/- 0.1 mm | |
Crassitudo | 650 μm +/- 25 μm | |
Orientatio Plana Primaria | Planum A (11-20) +/- 0.2° | |
Longitudo Plana Primaria | 30.0 mm +/- 1.0 mm | |
Latus Unius Politum | Superficies anterior | Epi-politum, Ra < 0.2 nm (per AFM) |
(SSP) | Superficies posterior | Subtiliter tritum, Ra = 0.8 μm ad 1.2 μm |
Utrinque Politum | Superficies anterior | Epi-politum, Ra < 0.2 nm (per AFM) |
(DSP) | Superficies posterior | Epi-politum, Ra < 0.2 nm (per AFM) |
TTV | < 20 μm | |
ARCUUS | < 20 μm | |
STAPTUM | < 20 μm | |
Purgatio / Involucrum | Purgatio cubiculi puri classis 100 et involucrum vacuum, | |
Viginti quinque partes in uno involucro cassettae vel involucro partis singularis. |
Multa annorum experientia in industria sapphirina tractanda nobis est, sive in foro Sinensi sive in foro internationali ubi opifices offeruntur. Si quas necessitates habes, nobiscum libere communicare potes.
Diagramma Detaliatum


