Substratum carburi silicii, diametro 150mm, fictitium gradus, SiC Wafer Reasearch productum, 4H-N/6H-N

Descriptio Brevis:

Substrata tenuia supraconducentia ad altas temperaturas, pelliculas tenues magneticas et ferroelectricas, crystalla semiconducentia, crystalla optica, materias crystallinas lasericas praebere possumus, simulque orientationem, sectionem crystallorum, trituram, polituram, aliasque operas processus praebere. Nostra substrata SiC ex officina Tankeblue in Sinis proveniunt.


Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Specificatio substrati carburi silicii (SiC) diametro sex unciarum

Gradus

MPD nulla

Productio

Gradus Investigationis

Gradus Simulacrum

Diameter

150.0mm ± 0.25mm

Crassitudo

4H-N

350um ± 25um

4H-SI

500um ± 25um

Orientatio Lamellae

In axe: <0001> ±0.5° pro 4H-SI
Extra axem: 4.0° versus <1120> ±0.5° pro 4H-N

Primaria Planities

{10-10}±5.0°

Longitudo Plana Primaria

47.5mm ± 2.5mm

Exclusio marginis

3mm

TTV/Arcus/Stamen

≤15um/≤40um/≤60um

Densitas Microtubuli

≤1cm-2

≤5cm-2

≤15cm-2

≤50cm-2

Resistivitas 4H-N 4H-SI

0.015~0.028Ω!cm

≥1E5Ω!cm

Asperitas

Politura Ra ≤1nm CMP Ra ≤0.5nm

#Rimae a luce magnae intensitatis

Nullus

1 permissum, ≤2mm

Longitudo cumulativa ≤10mm, longitudo singularis ≤2mm

*Laminae hexagonales lumine altae intensitatis

Area cumulativa ≤1%

Area cumulativa ≤ 2%

Area cumulativa ≤ 5%

*Areae polytypae luce magnae intensitatis

Nullus

Area cumulativa ≤ 2%

Area cumulativa ≤ 5%

*&Rasurae a luce magnae intensitatis

Tres scalpturae ad 1 x diametrum lamellae longitudinem cumulativam

Quinque scalpturae ad 1 x diametrum lamellae longitudinem cumulativam

Quinque scalpturae ad 1 x diametrum lamellae longitudinem cumulativam

Fragmentum marginis

Nullus

Tres permissi, ≤0.5mm singuli

Quinque permissi, ≤1mm singuli

Contaminatio a luce altae intensitatis

Nullus

Venditiones et Cura Emptorum

Emptio Materiarum

Officium emptionis materiarum curam gerit ut omnes materias primas necessarias ad productum tuum producendum colligat. Plena vestigabilitas omnium productorum et materiarum, incluso analysi chemica et physica, semper praesto est.

Qualitas

Per fabricationem vel machinationem productorum tuorum et post eam, departmentum qualitatis curandae versatur in curando ut omnes materiae et tolerantiae specificationibus tuis satisfaciant vel excedant.

Servitium

Nobis gloriamur quod habemus artifices venditionum qui plus quam quinque annos in industria semiconductorum experti sunt. Hi eruditi sunt ut quaestionibus technicis respondeant et pretia tempestive pro necessitatibus vestris praebeant.

Quovis tempore cum problema habes, tibi adsumus, et intra decem horas id solvimus.

Diagramma Detaliatum

Substratum carburi silicii (1)
Substratum carburi silicii (2)

  • Praecedens:
  • Deinde:

  • Nuntium tuum hic scribe et nobis mitte.