Substratum recuperationis fictitium lamellae siliconis octo unciarum, typi P/N (100), 1-100Ω

Lamella silicii octo unciarum, typi P/N (100), substratum fictum recuperabile 1-100Ω, imago principalis.

Descriptio Brevis:

Magnum inventarium laminarum utrinque politarum, omnes laminae a diametro 50 ad 400mm. Si specificatio tua in inventario nostro non est, necessitudines diuturnas cum multis suppeditoribus stabilivimus qui laminas ad singulas specificationes aptandas fabricare possunt. Laminae utrinque politae ad silicem, vitrum, et alias materias in industria semiconductorum vulgo adhibitas adhiberi possunt.

Mitte nobis inscriptionem electronicam

Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Introductio capsulae crustulorum

Lamella silicii octo unciarum est materia substrati silicii vulgo adhibita et late in processu fabricationis circuitum integratorum adhibetur. Tales lamellae silicii vulgo adhibentur ad varia genera circuitum integratorum fabricanda, inter quae microprocessores, fragmenta memoriae, sensoria et alia instrumenta electronica. Lamellae silicii octo unciarum vulgo adhibentur ad fragmenta relative magnarum magnitudinum fabricanda, cum commodis inter quae area superficialis maior et facultas plures fragmenta in una lamella silicii faciendi, quod ad augendam efficientiam productionis ducit. Lamella silicii octo unciarum etiam bonas proprietates mechanicas et chemicas habet, quae apta est ad productionem circuitum integratorum magnae scalae.

Proprietates producti

Lamella silicii polita, typus P/N 8" (25)

Orientatio: 200

Resistivitas: 0.1 - 40 ohm•cm (Variari potest a grege ad gregem)

Crassitudo: 725 +/- 20 µm

Primus/Monitor/Gradus Probationis

PROPRIETATES MATERIAE

Parametrum	Characteristica
Typus/Dopans	P, Borum N, Phosphorus N, Antimonium N, Arsenicum
Orientationes	<100>, <111> directiones sectionis secundum specificationes emptoris
Contentum Oxygenii	10^XIXTolerantiae ppmA secundum specificationem emptoris
Contentum Carbonis	< 0.6 ppmA

PROPRIETATES MECHANICAE

Parametrum	Primus	Monitor/Experimentum A	Experimentum
Diameter	200±0.2mm	200 ± 0.2mm	200 ± 0.5 mm
Crassitudo	725±20µm (norma)	725±25µm (norma) 450±25µm 625±25µm 1000±25µm 1300±25µm 1500±25 µm	725±50µm (norma)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Arcus	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Involucrum	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Rotundatio Marginis	SEMI-STD
Notatio	Primaria SEMI-Plana tantum, SEMI-Plana Standard Plana Jeida Plana, Incisa

Parametrum	Primus	Monitor/Experimentum A	Experimentum
Criteria Lateris Anterioris
Status superficiei	Chemica Mechanica Polita	Chemica Mechanica Polita	Chemica Mechanica Polita
Asperitas Superficiei	< 2° A	< 2° A	< 2° A
Contaminatio Particulae @ >0.3 µm	= 20	= 20	= 30
Nebula, Foveae Cortex aurantii	Nullus	Nullus	Nullus
Serra, Notae Striationes	Nullus	Nullus	Nullus
Criteria Lateris Posterioris
Rimae, pedes corvi, vestigia serrarum, maculae	Nullus	Nullus	Nullus
Status superficiei	Caustica incisa