8inch Silicon laganum P/N-type (100) 1-100Ω dummy reuocare substratum

Silicon laganum P/N-type (100) 1-100Ω dummy substratum repeto Imaginum Featured

Brevis descriptio:

Magnum inventarium laganum duplex trilineum, omnia lagana ab 50 ad 400mm diametro Si tua specificatio in nostro inventario praesto non est, longas relationes cum multis victualibus instituimus, qui consue- tudinem lagana fabricare possunt ad singularem speciem aliquam aptare. Lagana duplex postlinea adhiberi potest pro siliconibus, vitreis et aliis materiis communiter adhibitis in industria semiconductoris.

Mitte ad nos inscriptio

Product Detail

Product Tags

Inducere laganum arca

laganum silicon-8-uncum est materia substrata silicone communiter adhibita et late adhibetur in processu gyrationis integralis fabricandi. Talia lagana silicones solent facere varias rationes circulorum integralium, inclusorum microprocessorum, memoriarum astularum, sensoriorum et aliarum electronicarum machinarum. 8-unciae laganae silicae solent facere assulas magnitudinum respective magnarum, commodis incluso spatio superficiali ampliore et facultas plus ramentorum in uno lagano silico, quod ad efficientiam productionem augendam ducetur. Oleum laganum 8-unciae etiam bonas proprietates mechanicas et chemicas habet, quae aptae sunt ad magnas scalas integrales ambitus productionis.

Product features

8" P/N genus, laganum pii politum (25 pcs)

Orientatio: 200

Resistivity: 0,1 - 40 olim • cm (Fortasse variari potest a massa ad batch)

Crassitudo: 725+/-20um

Primus/Monitor/test Grade

MATERIA

Parameter	Proprium
Typus / Dopant	P, Boron N, phosphori N, antimonii N, arsenici
Orientationes	<100>, <111> scalpere orientationes per orientationes per emptorem spectantes
Oxygen Content	10¹⁹ppmA Custom tolerances per customer's specification
Carbon Content	< 0.6 ppmA

MACHINA

Parameter	Primus	Monitor / Test A	Test
Diameter	200±0.2mm	200 ± 0.2mm	200 ± 0.5 mm
Crassitudo	725±20µm (vexillum)	725±25µm(vexillum) 450±25µm 625±25µm 1000±25µm 1300± 25µm 1500±25 µm	725±50µm (vexillum)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Arcum	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Wrap	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Rounding ore	SEMI-STD
Vestigium	SEMI-Flat solum primarium, SEMI-STD Flats Jeida Flat, Notch

Parameter	Primus	Monitor / Test A	Test
Ante Partem Criteria
Superficies conditio	Chemical Mechanica polita	Chemical Mechanica polita	Chemical Mechanica polita
Superficies asperitas	< 2 A°	< 2 A°	< 2 A°
Contaminatio Particulae @ >0.3 µm	= 20	= 20	= 30
Obducto, Pits Cortices	Nullus	Nullus	Nullus
Viderunt, Marks Striations	Nullus	Nullus	Nullus
Retro Parte Criteria
Rimas, corvos, notas, maculas	Nullus	Nullus	Nullus
Superficies conditio	Adurentia signata