English

Substratum aluminii. Orientatio substrati aluminii monocrystallini 111 100 111 5×5×0.5mm.

Substratum aluminii. Orientatio substrati aluminii monocrystallini. 111 100 111 5×5×0.5mm. Imago Praecipua.
  • Substratum aluminii. Orientatio substrati aluminii monocrystallini 111 100 111 5×5×0.5mm.
  • Substratum aluminii. Orientatio substrati aluminii monocrystallini 111 100 111 5×5×0.5mm.
  • Substratum aluminii. Orientatio substrati aluminii monocrystallini 111 100 111 5×5×0.5mm.

Descriptio Brevis:

Postulatio substratorum aluminii monocrystallini altae puritatis (99.99%) crescit in sectoribus technologicis sicut fabricatione semiconductorum et fontibus lucis altae efficientiae. Haec dissertatio varias dimensiones horum substratorum examinat: 5×5×0.5 mm, 10×10×1 mm, et 20×20×1 mm, intendens in orientationibus crystallographicis earum, scilicet (100) et (111). Notandum est orientationem (111) constantem reticuli 4.040 Å habere, quae proprietates mechanicas et electricas materiae significanter afficit. Gradus puritatis exceptionalis praesentiam vitiorum minuit, ita efficaciam substrati in applicationibus electronicis augens. Orientatio crystallorum aluminii munus cruciale agit in determinanda morphologia superficiei et comportamento generali in integratione machinarum.


Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Specificatio

Hae sunt proprietates substrati monocrystallini aluminii:

Puritas materiae alta: Puritas substrati crystallini singularis aluminii metallici plus quam 99.99% attingere potest, et contentum impuritatum valde humile est, quod requisitis asperis semiconductorum pro materiis altae puritatis satisfacere potest.
Crystallisatio perfecta: Substratum aluminii monocrystallini per methodum extractionis crescit, structuram monocrystallinam valde ordinatam, dispositionem atomorum regularem, et vitia pauciora habet. Hoc ad subsequentem machinationem accuratam in substrato conducit.

Superficies alta: Superficies substrati monocrystallini aluminii accurate polita est, et asperitas ad gradum nanometricum pervenire potest, normas munditiae fabricationis semiconductorum implens.
Bona conductivitas electrica: Ut materia metallica, aluminium bonam conductivitatem electricam habet, quae transmissioni celerrimae circuituum in substrato favet.
Substratum monocrystallinum aluminii plures applicationes habet.
1. Fabricatio circuituum integratorum: Substratum aluminii unum e substratis principalibus est ad fabricandas lamellas circuituum integratorum. Complexae dispositiones circuituum in laminis fabricari possunt ad productionem CPU, GPU, memoriae, aliorumque productorum circuituum integratorum.
2. Instrumenta electronica potentiae: Substratum aluminii aptum est ad fabricationem MOSFET, amplificatorum potentiae, LED, aliorumque instrumentorum electronicorum potentiae. Bona eius conductivitas thermalis dissipationem caloris instrumenti confert.
3. Cellulae solares: Substrata aluminii late in fabricatione cellularum solarium ut materiae electrodi vel substrata interconnectionis adhibentur. Aluminium bonam conductivitatem electricam et commoda pretii humilis habet.
4. Systema microelectromechanica (MEMS): Substratum aluminii ad varia sensoria MEMS et instrumenta exsecutionis fabricanda, ut sensoria pressionis, accelerometria, microspecula, et cetera, adhiberi potest.
Officina nostra apparatu productionis provecto et turma technica instructa est, quae varias specificationes, crassitudines et formas substrati monocrystallini aluminii secundum requisita specifica clientium accommodare potest.

Diagramma Detaliatum

a1
a2
  • Praecedens:
  • Deinde:
    • Nuntium tuum hic scribe et nobis mitte.

    Categoriae productorum

    Preme "Enter" ad quaerendum vel "ESC" ad claudendum