Substratum/plagulae Ni, structura cubica crystalli singularis, a=3.25A, densitas 8.91.

Orientationes crystallographicae substratorum Ni, velut <100>, <110>, et <111>, partes cruciales agunt in proprietatibus superficialibus et interactionis materiae determinandis. Hae orientationes facultates aptationis clathri cum variis materiis tenuibus pellicularum praebent, incrementum accuratum stratorum epitaxialium sustinentes. Praeterea, resistentia corrosionis niccoli id ​​durabile facit in ambitus asperis, quod utile est ad applicationes in industria aëronautica, maritima, et processu chemico. Robur mechanicum eius porro efficit ut substrata Ni rigores processus physici et experimentationis sine degradatione sustinere possint, basin stabilem praebentes technologiarum depositionis et obductionis tenuium pellicularum. Haec coniunctio proprietatum thermalium, electricarum, et mechanicarum substrata Ni essentialia facit ad investigationes provectas in nanotechnologia, scientia superficierum, et electronica.
Inter proprietates niccoli duritiam et robur magnum numerari possunt, quae usque ad 48-55 HRC dura esse potest. Bona resistentia corrosionis, praesertim ad acidum et alcalium, et alia media chemica, praeclaram resistentiam habet. Bona conductivitas electrica et magnetismus inter praecipuas partes fabricationis mixturarum electromagneticarum numerantur.
Nickel in multis campis adhiberi potest, velut ut materia conductiva pro componentibus electronicis et ut materia contactus. Ad fabricandas pilas, motores, transformatores, aliaque instrumenta electromagnetica adhibetur. In connectionibus electronicis, lineis transmissionis, aliisque systematibus electricis adhibetur. Ut materia structuralis pro instrumentis chemicis, vasis, fistulis, etc. Ad fabricanda instrumenta reactionis chemicae cum altis requisitis resistentiae corrosionis adhibetur. In campis pharmaceuticis, petrochemicis, aliisque ubi resistentia corrosionis materiarum stricte requiritur, adhibetur.

Substrata niccoli (Ni), propter proprietates suas physicas, chemicas, et crystallographicas versatiles, numerosas applicationes in variis campis scientificis et industrialibus inveniunt. Infra sunt aliquae ex applicationibus praecipuis substratorum Ni: Substrata niccoli late in depositione pellicularum tenuium et stratorum epitaxialium adhibentur. Orientationes crystallographicae specificae substratorum Ni, ut <100>, <110>, et <111>, congruentiam clathri cum variis materiis praebent, permittens incrementum accuratum et moderatum pellicularum tenuium. Substrata niccoli saepe in evolutione instrumentorum repositionis magneticae, sensorum, et instrumentorum spintronicorum adhibentur, ubi moderatio spin electronici clavis est ad meliorem efficaciam instrumentorum. Nickel est catalysator excellens pro reactionibus evolutionis hydrogenii (HER) et reactionibus evolutionis oxygenii (OER), quae criticae sunt in divisione aquae et technologia cellarum combustibilis. Substrata niccoli saepe ut materiae sustentatrices pro tunicis catalyticis in his applicationibus adhibentur, contribuentes ad processus conversionis energiae efficientes.
Varias specificationes, crassitudines et formas substrati monocrystallini Ni secundum requisita specifica clientium accommodare possumus.