GaN 50.8mm 2unciae in lamella sapphirina Epi-layer
Applicatio laminae epitaxialis nitridi gallii GaN
Propter efficaciam gallii nitridi, laminae epitaxiales gallii nitridi praecipue aptae sunt ad applicationes magnae potentiae, altae frequentiae, et humilis tensionis.
Reflectetur in:
1) Alta lacuna frequentiae: Alta lacuna frequentiae gradum tensionis instrumentorum gallii nitridi auget et potentiam maiorem quam instrumenta gallii arsenridi emittere potest, quod praecipue aptum est stationibus basi communicationis 5G, radar militari et aliis campis;
2) Alta efficientia conversionis: resistentia in statu conductionis instrumentorum electronicorum potentiae commutatoriae nitridi gallii tribus magnitudinibus ordinibus minor est quam instrumentorum silicii, quod damnum in statu conductionis significanter reducere potest;
3) Alta conductivitas thermalis: alta conductivitas thermalis gallii nitridi efficit ut habeat excellentem dissipationem caloris, aptam ad productionem instrumentorum magnae potentiae, altae temperaturae, aliorumque camporum;
4) Vis campi electrici disruptivi: Quamquam vis campi electrici disruptivi nitridi gallii prope est vis nitridi silicii, tamen propter processum semiconductorum, discrepantiam clathri materialis, et alias causas, tolerantia tensionis instrumentorum nitridi gallii plerumque est circiter 1000V, et tensio usus tuti plerumque infra 650V est.
Res | GaN-TCU-C50 | GaN-TCN-C50 | GaN-TCP-C50 |
Dimensiones | e 50.8mm ± 0.1mm | ||
Crassitudo | 4.5±0.5 µm | 4.5±0.5um | |
Orientatio | Planum C(0001) ±0.5° | ||
Typus Conductionis | Typus N (Sine Dopatione) | Typus N (Si-dopatus) | Typus P (Mg-dopatus) |
Resistivitas (300K) | < 0.5 Q・cm | < 0.05 Q・cm | ~ 10 Q・cm |
Concentratio Vectoris | < 5x1017centimetrum-3 | > 1x1018centimetrum-3 | > 6 x 1016 cm-3 |
Mobilitas | ~300 centimetra2/Contra | ~200 cm2/Contra | ~10 centimetra2/Contra |
Densitas Luxationis | Minus quam 5x108centimetrum-2(calculatum per FWHMs XRD) | ||
Structura substrati | GaN in Sapphiro (Norma: SSP Optio: DSP) | ||
Area Superficialis Utilis | > 90% | ||
Sarcina | In ambitu cubiculi puri classis 100, in cassettis 25 partium vel vasculis singularum lamellarum, sub atmosphaera nitrogenii conditum. |
* Alia crassitudo potest adaptari
Diagramma Detaliatum


